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旋转涂布单元

综合4通道注射泵

模型:HO-TH-05S4

新万博网页登录最精准Holmarc与集成的注射泵的旋转涂布单元,模型没有:HO-TH-05ST专用桌面系统旋转外套小基质研究实验室与自旋控制工艺参数。高速和持续时间范围允许用户实现所需的厚度或薄的电影。自旋头传动装置是一个精密直流伺服电动机,它需要较少的维护,和准确的速度和加速度控制。真空吸盘由缺油真空泵把衬底在旋转头。HO-TH-05ST有独立控制的四通道注射泵向衬底disppense自动开始时,或在旋转过程。泵通过硅油管连接到旋转的碗。

设备用户友好的前面板有键盘和LCD编程自旋的过程。旋转,旋转速度、加速度等都是通过前面板可编程参数。程序内存是易失性,记录参数不会丢失任何电源故障。这个模型配备9预设的记忆,可编辑程序,各有9步骤。

设备紧凑、完整与电子产品内置的单元内的足迹275 x 400毫米。所有组件设备的腐蚀保护洁净室兼容。尼龙的构造旋转室直径200毫米。透明的保护层的室使旋转涂布麻烦免费的体验。三套尼龙防腐真空抛掷随设备提供控股衬底从15 x 15毫米平方到100 x 100毫米平方。溶剂排水和真空释放设施也提供这个设备。新万博网页登录最精准按要求Holmarc可以提供定制的模型。



特性

卡盘直径:14毫米,22毫米,36毫米(O形圈的外径)

透明的安全盖工作室

非易失性程序内存

用户友好的设计

面板电源开/关开关

进口和出口对惰性气体吹扫,6毫米油管



致动器 : 无刷直流电机
旋转的速度 : 60 - 9999转
底物直径 : 30毫米到70毫米
电源输入 : 230伏,50赫兹
宣读 : 20 x 4线液晶
旋转室 : 尼龙
加速度 : 5 - 2000转/秒
旋转速度的准确性 : < 5%
可编程参数 : 速度,加速度,停留时间也没有。的步骤
最大不的步骤 : 9
程序内存 : 9项目(非挥发性)
: W深度400 mm x 275 mm x 500 mm的H
重量(大概)。 : 46公斤
应用程序

Spincoating无处不在在有机电子、纳米技术、半导体工业和其他工业领域。


旋转涂布广泛应用于精密加工功能氧化物层玻璃或单晶基片使用溶胶-凝胶前体,它可用于创建与纳米级厚度均匀的薄膜。它集中用于光刻,存款层光刻胶厚度约1微米。

旋转涂布是最常见的一种技术用于沉积均匀的薄膜平面基板。用于各种各样的产业和技术领域。旋转涂布的优点是它能够快速、方便地生成非常统一的电影,从几纳米到几个微米厚度。


在这种技术中,少量的涂层材料应用于衬底的中心,这是低速旋转或不旋转。然后衬底被高速旋转,以传播离心力的涂层材料。持续而旋转流体旋转基片的边缘,直到达到所需的厚度的薄膜。应用溶剂通常是不稳定的,同时蒸发。因此,旋转角速率越高,瘦。膜的厚度也取决于溶液的粘度和浓度和溶剂。

注射泵自动售货机#规格:

分配数量 : 1 - 999微升或毫升
流量 : 1 - 999微升/分钟或毫升/分钟
持续时间 : 1 - 99秒/分钟/小时
自动分配与自旋过程集成
可选配件

数字吸管配药的液态基质

站用于手动吸管

真空适配器解决培养皿的大小从30毫米- 100毫米直径

机械夹或锁样品没有真空



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