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台式磨床


模型:HO-IAD-BTR-03

新万博网页登录最精准Holmarc台式拓印机是专为LCD和LCoS研发实验室设计的紧凑型专用机器。该系统用于跟踪聚酰亚胺表面的凹槽,以定向液晶分子。搓揉机,HO-IAD-BTR-03是在HO-IAD-BTR-01和HO-IAD-BTR-02的基础上开发的。在这个模型中,基板的高度可以使用电动垂直平台来改变。在微米量级的精确垂直高度调整是可能的。它的定制方式是,水平阶段将在上下方向上进行电动化。当一个滚动结束时,它会向下移动,并且舞台会回到下一次滚动的初始位置。因此,可以实现单向摩擦。承印物可同时作直线或垂直运动。

基材与真空卡盘一起被固定在一个旋转台上,这样它就可以在±45度的任何角度上旋转和定位,以适应各种摩擦方向。基板既可以真空保持,也可以使用M4螺钉安装在机器提供的附加板上。可加载基板的最大尺寸为100mm × 100mm。该系统已开发为一个独立的单元,其中主轴的速度和方向可以改变。主轴转速可控制在0 ~ 3000转/分。


摩擦机是与海得拉巴大学物理学院苏拉吉特·达拉教授技术合作开发的。
他的个人网站:www.surajitdhara.in



可编程功能

基材的运动范围

电动的直线或垂直运动

运动速度(基片阶段)

不。重复次数/操作时间

电源输入 230v AC (110v AC可选)
线性阶段
一)致动器 步进电机
b)旅行 100毫米
c)速度控制 0.05 - 10毫米/秒
垂直阶段
a)空白(+)区域 99步[1步= 10 μm]
b)空白(-)区 99毫米
主轴
一)致动器 无刷直流电动机
b)速度控制 0 - 3000转/分



台式磨擦机

摩擦机是为LCD研发实验室开发的。该系统旨在追踪聚酰亚胺上的凹槽,以定向液晶分子。




台式磨擦机

摩擦机是为LCD研发实验室开发的。该系统旨在追踪聚酰亚胺上的凹槽,以定向液晶分子。



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